
產(chǎn)品型號:
更新時(shí)間:2025-12-03
廠商性質(zhì):代理商
訪 問 量 :33
028-68749778
產(chǎn)品分類
| 品牌 | OTSUKA/日本大塚 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
日本OTSUKA大塚智能膜厚儀 SM-100系列

日本OTSUKA大塚智能膜厚儀 SM-100系列
日本OTSUKA大塚顯微分光膜厚計(jì)FE-300F系列是一款集高精度、高速度與多功能性于一體的光學(xué)測量設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、顯示面板、光學(xué)材料及薄膜制造等領(lǐng)域。
?核心技術(shù)與原理?
FE-300F系列基于光學(xué)干涉原理,通過測量薄膜上下表面反射光的光程差引起的干涉現(xiàn)象,結(jié)合紫外到近紅外波段的光譜分析,精確計(jì)算膜厚、折射率(n)和消光系數(shù)(k)。設(shè)備支持峰谷法、頻率分析法、非線性最小二乘法等多種分析算法,可應(yīng)對不同材料與測量需求。其核心優(yōu)勢在于非接觸、非破壞性測量,避免對樣品造成損傷,同時(shí)支持多層膜解析(最多10層),適用于復(fù)雜薄膜結(jié)構(gòu)分析。
?性能參數(shù)與型號選擇?
FE-300F系列提供多款變體以適應(yīng)不同測量場景:
?FE-300V(標(biāo)準(zhǔn)型)?:波長范圍450-780nm,膜厚范圍100nm-40μm,適用于常規(guī)薄膜測量。
?FE-300UV(薄膜型)?:波長范圍300-800nm,膜厚范圍10nm-20μm,針對超薄膜設(shè)計(jì),滿足半導(dǎo)體、光學(xué)鍍膜等高精度需求。
?FE-300NIR(厚膜型)?:波長范圍900-1600nm,膜厚范圍3μm-300μm,適用于厚膜或吸收性材料測量。
設(shè)備測量時(shí)間僅需0.1-10秒,光斑直徑約3mm,支持8寸晶圓測量,并配備USB通信接口,操作便捷。
?功能特點(diǎn)與用戶體驗(yàn)?
FE-300F系列采用一體化設(shè)計(jì),體積小巧、價(jià)格親民,同時(shí)繼承了系列的核心功能。軟件界面直觀,提供初學(xué)者解析模式,簡化復(fù)雜建模流程,即使新手也能快速上手。設(shè)備支持反射率測量、光學(xué)常數(shù)分析,并可通過NIST認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn)樣品校準(zhǔn),確保測量結(jié)果可追溯,精度達(dá)±0.2%。此外,設(shè)備可自由集成至客戶系統(tǒng),滿足在線檢測需求。
?應(yīng)用場景與行業(yè)價(jià)值?
在半導(dǎo)體領(lǐng)域,F(xiàn)E-300F系列可精確測量SiO?、SiN等絕緣膜及光刻膠厚度,助力工藝控制;在顯示面板制造中,設(shè)備可分析ITO薄膜、彩色抗蝕劑(RGB)及OLED封裝材料厚度,確保顯示質(zhì)量;在光學(xué)材料與薄膜行業(yè),設(shè)備支持AR膜、HC膜、DLC涂層等材料的厚度與光學(xué)常數(shù)分析,為產(chǎn)品性能優(yōu)化提供數(shù)據(jù)支撐。
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